見證中國光電產(chǎn)業(yè)興起的中國國際光電博覽會（CIOE），享譽全球光電產(chǎn)業(yè)第一展，已然在深圳創(chuàng)辦24年，每一屆展會都吸引了上下游的眾多技術、產(chǎn)品、信息、資金、人才等各種資源要素集聚，引領產(chǎn)業(yè)發(fā)展風向，激發(fā)全新發(fā)展動能，推動經(jīng)濟高質(zhì)量發(fā)展。

2024年9月11日，第25屆中國國際光電博覽會（CIOE）在深圳國際會展中心隆重開幕。作為全球規(guī)模最大、影響力最強的光電行業(yè)展會之一，CIOE已成為光電產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“風向標”和“創(chuàng)新引擎”，吸引了全球超過3700家光電企業(yè)參展，涵蓋信息通信、精密光學、激光及智能制造等多個領域，全面展示了光電技術在未來產(chǎn)業(yè)發(fā)展中的廣泛應用和發(fā)展前景。此次展會有超過80場的前沿產(chǎn)業(yè)、應用及學術會議，邀請來自全球的光電領域院士、權威專家、學者及行業(yè)領袖，圍繞光電技術的最新進展、行業(yè)趨勢、市場機遇等熱點話題進行深入探討與分享，為參會者提供寶貴的學習和交流機會，同時為光電行業(yè)的未來發(fā)展指明方向。本次展會不僅展示了最新的光電技術和解決方案，還為行業(yè)的合作與交流搭建了重要平臺。

博覽會現(xiàn)場 

作為國內(nèi)領先的半導體光電企業(yè)，路維光電攜核心產(chǎn)品亮相此次盛會，展示了在技術創(chuàng)新和行業(yè)應用中的強大優(yōu)勢。其中高分辨率掩膜版產(chǎn)品，能夠在極端復雜的制程條件下實現(xiàn)高精度圖像轉(zhuǎn)移，為先進制程提供上游技術支撐；同時具備國內(nèi)首條G11光掩膜版產(chǎn)線，標志著中國打破日、韓企業(yè)在G11光掩膜版領域的壟斷地位，整體提升我國在顯示行業(yè)的國際話語權，尤為重要的是新型掩膜版產(chǎn)品采用了先進材料和制程工藝，使圖形轉(zhuǎn)移的穩(wěn)定性進一步提升，降低了光刻過程中因環(huán)境因素產(chǎn)生的誤差。對于半導體芯片制造商而言，這無疑是提升良品率、降低制造成本的重要保障。此外，掩膜版技術的革新不僅僅體現(xiàn)在物理性能的提升上，數(shù)字化制造流程的引入也是未來技術發(fā)展的一個重要方向。路維光電在本屆展會上強調(diào)了智能制造與掩膜版工藝的深度融合，通過數(shù)字化控制系統(tǒng)，實時監(jiān)控和調(diào)節(jié)掩膜版制造中的關鍵工藝參數(shù)，從而確保產(chǎn)品的一致性和高效性。

路維光電展位

半導體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展離不開核心工藝技術的持續(xù)突破，而掩膜版作為半導體光刻工藝的上游關鍵節(jié)點、關鍵材料之一，扮演著決定性角色。近年來，隨著半導體制造工藝的持續(xù)迭代，先進工藝要求掩膜版具備更高的分辨率、更好的穩(wěn)定性和更低的誤差率，以應對芯片生產(chǎn)對精細圖形和高密度集成的需求。本屆CIOE展會全方位展示了光電產(chǎn)業(yè)的最新成果，為光電產(chǎn)業(yè)及下游應用領域帶來了前沿的新技術、新模式，激發(fā)行業(yè)新思考，開啟發(fā)展新篇章。

未來，隨著光刻技術的進一步發(fā)展，掩膜版也將迎來更多技術突破，為全球半導體產(chǎn)業(yè)、新型顯示產(chǎn)業(yè)提供強有力的支撐。光電技術的持續(xù)發(fā)展將為全球產(chǎn)業(yè)帶來更多的機遇和挑戰(zhàn)。路維光電將繼續(xù)秉承技術創(chuàng)新的理念，深化與國內(nèi)外企業(yè)合作，推動掩膜版核心技術的不斷突破。在國際市場方面，路維光電將通過技術領先優(yōu)勢和優(yōu)質(zhì)服務，進一步開拓全球市場，提升市場占有率及品牌影響力。與此同時，路維光電將積極布局新興領域，推動半導體制造、先進封裝等技術在人工智能、高科技制造等行業(yè)中的廣泛應用。通過與科研機構、上下游企業(yè)的深度合作，路維光電將構建更加緊密的生態(tài)產(chǎn)業(yè)鏈，推動全球光電產(chǎn)業(yè)的協(xié)同發(fā)展。公司將繼續(xù)以全球視野為導向，為客戶提供高質(zhì)量的掩膜版產(chǎn)品和解決方案，助力全球科技半導體、新型顯示制造產(chǎn)業(yè)的繁榮與進步。