11月9-10日，全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)微光刻分技術(shù)委員會(huì)成立大會(huì)暨第十屆微光刻技術(shù)交流會(huì)在成都市隆重舉行，本屆會(huì)議由成都路維光電有限公司承辦。來自全球半導(dǎo)體、集成電路微光刻相關(guān)的學(xué)術(shù)、科研、投資等各界精英代表近200人參會(huì)，聚焦全球半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展、前沿技術(shù)以及產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新等熱點(diǎn)，共同促進(jìn)行業(yè)交流與協(xié)同創(chuàng)新。

       微光刻分技術(shù)委員會(huì)成立大會(huì)暨第十屆微光刻技術(shù)交流會(huì)開幕式由中國(guó)科學(xué)院理論物理研究所書記、研究員副所長(zhǎng)；全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)微光刻分技術(shù)委員會(huì)主任馮稷主持。會(huì)上成都市高新區(qū)管委會(huì)副主任趙繼東致歡迎詞，成都高新區(qū)電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展局副處長(zhǎng)沈瀛致詞并對(duì)成都電子信息產(chǎn)業(yè)功能區(qū)招商環(huán)境作了介紹；成都路維光電有限公司董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理杜武兵代表承辦方對(duì)此次前來參會(huì)的各位領(lǐng)導(dǎo)、專家、同仁表示熱烈的歡迎。國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金投資股份有限公司總裁、全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)主任委員丁文武致詞，向微光刻分技術(shù)委員會(huì)成立大會(huì)暨第十屆微光刻技術(shù)交流會(huì)順利召開表示熱烈的祝賀。

丁文武總裁致詞

杜武兵董事長(zhǎng)致詞

       會(huì)上，丁文武總裁宣讀國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)管理委員會(huì)批文，為各位委員頒發(fā)證書并向各位資深顧問和專家頒發(fā)聘書。

頒發(fā)證書、聘書

       中國(guó)科學(xué)院微電子研究所研究員、全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)微光刻分技術(shù)委員會(huì)委員兼秘書長(zhǎng)陳寶欽對(duì)微光刻分技術(shù)委員會(huì)十年的發(fā)展歷程及國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)制定情況作了匯報(bào)。

陳寶欽秘書長(zhǎng)匯報(bào)

      本次會(huì)議齊聚微光刻領(lǐng)域的專家和技術(shù)人員，對(duì)微光刻技術(shù)、微光刻設(shè)備和材料技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)、最新研究成果等展開深入的交流與探討，為微光刻業(yè)界提供了一個(gè)最新發(fā)展動(dòng)態(tài)的交流平臺(tái)。復(fù)旦大學(xué)、中科院微電子所、中科院上海應(yīng)用物理所等9家單位代表為大家?guī)砹司实膶I(yè)報(bào)告，報(bào)告涵蓋了微光刻技術(shù)、微光刻設(shè)備與材料技術(shù)等內(nèi)容，與會(huì)代表們?cè)跁?huì)上分享了各自領(lǐng)域的最新進(jìn)展及研究成果。對(duì)微光刻技術(shù)、微光刻設(shè)備和材料技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)、最新研究成果及進(jìn)展等展開深入的交流，共同探討微光刻學(xué)界、業(yè)界前沿的重點(diǎn)、難點(diǎn)問題。

       在全國(guó)疫情防控常態(tài)化背景下，這次大會(huì)順利舉行來之不易。此次會(huì)議的召開為國(guó)內(nèi)微光刻技術(shù)、光掩模制造技術(shù)、微納米制造技術(shù)與半導(dǎo)體掩模制造設(shè)備等領(lǐng)域的生產(chǎn)企業(yè)、科研院所、高等院校及用戶單位提供一個(gè)相互學(xué)習(xí)、交流的一個(gè)平臺(tái)，共促行業(yè)發(fā)展。會(huì)后，參會(huì)代表參觀了成都路維高世代光掩模版生產(chǎn)基地國(guó)內(nèi)首條高世代G11 光掩模產(chǎn)線。路維光電是國(guó)內(nèi)光掩模行業(yè)成立較早的企業(yè)之一，光掩模產(chǎn)品全面配套國(guó)內(nèi)高世代、新型顯示及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。經(jīng)過23年的努力與沉淀，已發(fā)展為我國(guó)唯一全尺寸光掩模研發(fā)制造企業(yè)。成都路維超大尺寸超高精密光掩模產(chǎn)品已正式供貨，我國(guó)顯示面板用超大尺寸高精密光掩模版取得了階段性的突破，加速推進(jìn)新型顯示上游關(guān)鍵材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

專家領(lǐng)導(dǎo)蒞臨指導(dǎo)成都路維

      下屆微光刻會(huì)議將于2021年在中國(guó)科學(xué)院微電子研究所南京智能技術(shù)研究院舉辦，屆時(shí)，微光刻界研究所、院校、企業(yè)將再次聚首南京，共謀產(chǎn)業(yè)發(fā)展大計(jì)。